[发明专利]曝光设备及曝光方法有效
| 申请号： | 201810372237.0 | 申请日： | 2018-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN110398880B | 公开（公告）日： | 2021-09-28 |
| 发明（设计）人： | 蔡佩璁;罗忠文;潘信华 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 聂慧荃;闫华 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本申请提供一种曝光设备，包括照明系统、控制系统及投影光学系统。照明系统配置用以产生曝光用光照明掩模载台上的掩模。照明系统包括光学元件、检测器及驱动装置。光学元件配置于曝光用光的光路上，用以引导曝光用光至掩模上。检测器配置用以感测来自光学元件的曝光用光的强度。控制系统配置用以根据来自检测器的感测信号控制驱动装置沿着不同于上述光路的方向驱动光学元件。投影光学系统配置用以将掩模的图案转印至基板载台上的基板上。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 设备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种曝光设备，包括：一照明系统，配置用以产生一曝光用光照明一掩模载台上的一掩模，该照明系统包括：一光学元件，配置于该曝光用光的一光路上，用以引导该曝光用光至该掩模上；一检测器，配置用以感测来自该光学元件的曝光用光的强度；以及一驱动装置；一控制系统，配置用以根据来自该检测器的一感测信号控制该驱动装置沿着不同于该光路的方向驱动该光学元件；以及一投影光学系统，配置用以将该掩模的图案转印至一基板载台上的一基板上。
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