[发明专利]适用于非均匀场景的基带多普勒中心估计方法有效

专利信息
申请号: 201810375626.9 申请日: 2018-04-24
公开(公告)号: CN108594227B 公开(公告)日: 2020-09-25
发明(设计)人: 刘碧丹;刘畅;王岩飞 申请(专利权)人: 中国科学院电子学研究所
主分类号: G01S13/90 分类号: G01S13/90
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 李坤
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本公开提供了一种适用于非均匀场景的基带多普勒中心估计方法,针对强目标的不完整照射会加大基带多普勒中心估计误差问题,本公开提出的基带多普勒中心估计方法,首先通过方位压缩处理,把每个目标的能量都集中在数个像素点上;其次,剔除不完整照射的强目标;最后在频域对功率谱曲线相关卷积估计出准确的基带多普勒中心;通过仿真实验和飞行数据均有效验证了本公开的有效性。本公开具有较广泛的使用范围,在非均匀场景回波的估计时,避免了部分孔径效应的影响,与传统的算法性能相比,提高了非均匀场景下的估计精度,对提高成像质量具有重要意义。
搜索关键词: 适用于 均匀 场景 基带 多普勒 中心 估计 方法
【主权项】:
1.一种适用于非均匀场景的基带多普勒中心估计方法,包括:步骤a:对合成孔径雷达进行方位压缩处理把每个目标的能量都集中在n个像素点上,其中,n>1;步骤b:经过移动的窗口遍历使步骤a中方位压缩后的时域信号,通过谱畸变进行质量检测,剔除不完整照射的强目标,选择目标时域段并变换回频域;以及步骤c:在步骤b选择的频域通过平均功率谱与相关函数的圆周相关估计出基带多普勒中心。
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