[发明专利]一种表征球形聚焦超声场的聚焦纹影系统有效
| 申请号： | 201810377849.9 | 申请日： | 2018-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN108593088B | 公开（公告）日： | 2020-09-08 |
| 发明（设计）人： | 席锋;曾德平;宋丹;罗小兵;何敏 | 申请（专利权）人： | 重庆医科大学 |
| 主分类号： | G01H9/00 | 分类号： | G01H9/00 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 尹丽云 |
| 地址： | 400016*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本发明提供一种表征球形聚焦超声场的聚焦纹影系统，该纹影系统包括光源(1)、菲涅尔透镜(2)、环形源栅(3)、内部充满介质水的聚焦超声谐振腔(4)、光学玻璃封装(6)、聚焦透镜(7)、环形刀口栅(8)和成像系统(9)；菲涅尔透镜对光源进行聚焦，菲涅尔透镜聚焦后的光束照射到环形源栅后透射形成同心圆环的透射光束，透射光束辐射到被聚焦超声场扰动的介质水中后发生偏折，经偏折后的光束由聚焦透镜聚焦，聚焦透镜聚焦后的光束照射到环形刀口栅上，经环形刀口栅滤波后照射到成像系统(9)。本发明在聚焦纹影系统中采用二维环形源栅和环形刀口栅，对二维和三维扰动成像，实现球形聚焦超声场定性和定量表征。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 表征 球形 聚焦 声场 系统 | ||
【主权项】：
1.一种表征球形聚焦超声场的聚焦纹影系统，其特征在于，该纹影系统包括光源(1)、菲涅尔透镜(2)、环形源栅(3)、内部充满介质水的聚焦超声谐振腔(4)、光学玻璃封装(6)、聚焦透镜(7)、环形刀口栅(8)和成像系统(9)；菲涅尔透镜对光源进行聚焦，菲涅尔透镜聚焦后的光束照射到环形源栅后透射形成同心圆环的透射光束，透射光束辐射到被聚焦超声场扰动的介质水中后发生偏折，经偏折后的光束由聚焦透镜聚焦，聚焦透镜聚焦后的光束照射到环形刀口栅上，经环形刀口栅滤波后照射到成像系统(9)。
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