[发明专利]清洗机有效
| 申请号： | 201810381654.1 | 申请日： | 2018-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN108538764B | 公开（公告）日： | 2020-09-01 |
| 发明（设计）人： | 施杰 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L21/02 |
| 代理公司： | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人： | 林才桂;刘巍 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种清洗机。该清洗机具有供待清洗基板进入的搬入侧，以及供清洗后基板离开的搬出侧，包括：异物检出单元和返洗单元；该异物检出单元位于搬出侧之前，用于在基板离开清洗机之前检测基板是否清洗合格；该返洗单元位于搬出侧和搬入侧之间，用于将异物检出单元检测不合格的基板从搬出侧返回至搬入侧以由清洗机重新清洗。本发明的清洗机能够提高产出基板洗净良率，减少水残或未洗净物等对下游涂布机设备的影响，提高涂布前返洗效率；加快产线涂布前异常处理的效率，降低异常基板返洗的材料及时间损耗。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 | ||
【主权项】：
1.一种清洗机，具有供待清洗基板进入的搬入侧，以及供清洗后基板离开的搬出侧，其特征在于，包括：异物检出单元和返洗单元；该异物检出单元位于搬出侧之前，用于在基板离开清洗机之前检测基板是否清洗合格；该返洗单元位于搬出侧和搬入侧之间，用于将异物检出单元检测不合格的基板从搬出侧返回至搬入侧以由清洗机重新清洗。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电技术有限公司，未经武汉华星光电技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810381654.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
