[发明专利]液体供应单元、基板处理装置以及基板处理方法

摘要

提供了用于对基板进行液体处理的装置和方法。该装置包括：基板支撑单元，其支撑并旋转基板；以及液体供应单元，其将液体供应到由基板支撑单元支撑的基板上。液体供应单元包括供应第一处理液和第二处理液的喷嘴单元，以及移动喷嘴单元的移动单元。喷嘴单元具有用于以液幕方式排出第一处理液的第一狭缝排出口，用于以液幕方式排出第二处理液的第二狭缝排出口，以及用于排出预润湿液的润湿液排出口。取决于在基板上形成的膜，选择性地供应处理液，从而容易处理具有各种类型的膜的基板。

主权项

1.一种用于对基板进行液体处理的装置，所述装置包括：基板支撑单元，所述基板支撑单元支撑并旋转所述基板；以及液体供应单元，所述液体供应单元将液体供应到由所述基板支撑单元支撑的所述基板上，其中，所述液体供应单元包括：喷嘴单元，所述喷嘴单元供应第一处理液和第二处理液；以及移动单元，所述移动单元移动所述喷嘴单元，并且其中，所述喷嘴单元具有用于以液幕方式排出所述第一处理液的第一狭缝排出口，用于以液幕方式排出所述第二处理液的第二狭缝排出口，以及用于排出预润湿液的润湿液排出口。