[发明专利]光阻组合物、像素界定层、其制备方法及应用有效

专利信息
申请号: 201810385927.X 申请日: 2018-04-26
公开(公告)号: CN110231755B 公开(公告)日: 2020-06-19
发明(设计)人: 李伟;夏晶晶;周斌;刘军;胡迎宾;李广耀;宋威;苏同上 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
主分类号: G03F7/027 分类号: G03F7/027;G03F7/004;H01L27/32
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 黄灿;蔡丽
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及显示领域,特别涉及光阻组合物、像素界定层、其制备方法及应用。所述光阻组合物,包括像素界定层形成材料和掺杂在所述像素界定层形成材料中的疏液磁性纳米粒子。所述像素界定层,包括多个像素开口区和位于相邻所述像素开口区之间的间隔基体,所述间隔基体由所述光阻组合物制成,其中,所述间隔基体的顶部包含的所述疏液磁性纳米粒子的数量多于所述间隔基体的底部包含的所述疏液磁性纳米粒子的数量。由于疏液磁性纳米粒子同时具有疏液性和磁性,保证间隔基体的顶部疏液性质强,底部亲液性质强,以保证墨水不在顶部铺展污染相邻像素,并且墨水在像素开口区内部均匀铺展,提高成膜均一性,提高OLED基板的显示效果与产品质量。
搜索关键词: 组合 像素 界定 制备 方法 应用
【主权项】:
1.一种光阻组合物,包括像素界定层形成材料,其特征在于,还包括掺杂在所述像素界定层形成材料中的疏液磁性纳米粒子。
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