[发明专利]带隔离栏的焦平面阵列及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201810387492.2 申请日: 2018-04-26
公开(公告)号: CN108807428A 公开(公告)日: 2018-11-13
发明(设计)人: 刘斌;金迎春;周文洪;黄立 申请(专利权)人: 武汉高芯科技有限公司
主分类号: H01L27/144 分类号: H01L27/144;H01L21/762
代理公司: 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 代理人: 程殿军
地址: 430205 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供了一种带隔离栏的焦平面阵列及其制备方法,该焦平面阵列包括光敏材料,所述光敏材料上呈阵列状分布有多个像元,每一所述像元上连接一凸点,相邻的两个凸点之间被绝缘的隔离栏隔离。本发明通过在相邻的两个凸点之间增加绝缘的隔离栏,让每个凸点与其他的凸点隔离开来,这样在倒装焊时,凸点受压向四周扩张时,由于受到隔离栏的隔绝,相邻的凸点不会连到一起造成短路,从而不会形成盲元,且隔离栏可以限制凸点在倒装焊时下压的程度,从而可以提高凸点倒装焊的有效导通率和可靠性。
搜索关键词: 凸点 隔离栏 焦平面阵列 倒装焊 光敏材料 像元 绝缘 制备 隔离 有效导通率 阵列状分布 短路 受压
【主权项】:
1.一种带隔离栏的焦平面阵列,包括光敏材料,其特征在于:所述光敏材料上呈阵列状分布有多个像元,每一所述像元上连接一凸点,相邻的两个凸点之间被绝缘的隔离栏隔离。
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