[发明专利]一种钯纳米颗粒薄膜的制备工艺及其氢气传感器在审
申请号: | 201810387638.3 | 申请日: | 2018-04-26 |
公开(公告)号: | CN108642471A | 公开(公告)日: | 2018-10-12 |
发明(设计)人: | 孙超;丁建军;黄鹏程;兰慧;杨飘;张明杨 | 申请(专利权)人: | 江汉大学 |
主分类号: | C23C16/18 | 分类号: | C23C16/18;C23C16/455;G01N21/59;B82Y40/00 |
代理公司: | 深圳市合道英联专利事务所(普通合伙) 44309 | 代理人: | 廉红果;谭雪婷 |
地址: | 430056 湖北省武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了一种钯纳米颗粒薄膜的制备工艺及其氢气传感器,包括如下步骤:首先准备六氟乙酰丙酮钯(Ⅱ)、福尔马林、石英玻璃基底、高纯氮和碳支持膜;在源1中放入六氟乙酰丙酮钯作为前驱体,源2中放入福尔马林作为前驱体,在真空环境下将前驱体脉冲交替通入反应室;六氟乙酰丙酮钯作为前驱体与石英玻璃基底表面发生化学吸附和化学反应,惰性气体将多余的前驱体和副产物清除;福尔马林作为前驱体与已经结合在基底的六氟乙酰丙酮钯前驱体发生化学反应,最后在基底上沉积形成薄膜。本发明解决了现有光纤氢气传感器中的钯钇合金薄膜容易被空气中氧气毒化,无法有效避免薄膜起泡开裂等引起零点漂移的问题。 | ||
搜索关键词: | 前驱体 六氟乙酰丙酮 福尔马林 薄膜 氢气传感器 化学反应 石英玻璃基 钯纳米颗粒 制备工艺 基底 沉积形成薄膜 前驱体脉冲 惰性气体 化学吸附 零点漂移 真空环境 起泡 反应室 副产物 高纯氮 支持膜 钇合金 氧气 毒化 光纤 | ||
【主权项】:
1.一种钯纳米颗粒薄膜的制备工艺,其特征在于:包括如下步骤:(1)首先准备六氟乙酰丙酮钯(Ⅱ)、福尔马林、石英玻璃基底、高纯氮和碳支持膜;(2)在源1中放入六氟乙酰丙酮钯作为前驱体,源2中放入福尔马林作为前驱体,在真空环境下将前驱体脉冲交替通入反应室;(3)六氟乙酰丙酮钯作为前驱体与石英玻璃基底表面发生化学吸附和化学反应,惰性气体将多余的前驱体和副产物清除;(4)福尔马林作为前驱体与已经结合在基底的六氟乙酰丙酮钯前驱体发生化学反应,再次用惰性气体将多余的前驱体和副产物清除出反应腔,最后在基底上沉积形成薄膜。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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