[发明专利]偏光膜、其制造方法以及显示元件在审
| 申请号： | 201810394098.1 | 申请日： | 2018-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN108508522A | 公开（公告）日： | 2018-09-07 |
| 发明（设计）人： | 赖葳;陈加明;黄彦士;陈亦伟;叶佳元;李文仁;沈永裕 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;H01L51/52 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 梁挥;鲍俊萍 |
| 地址： | 中国台湾新竹科*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种偏光膜，包括：设置于基板上的无机氮化硅层、设置于无机氮化硅层上的无机氧化硅层、以及设置于无机氧化硅层上的金属层，且无机氧化硅层为富含硅的氧化硅层。 | ||
| 搜索关键词： | 无机氧化硅 氮化硅层 偏光膜 显示元件 氧化硅层 金属层 富含 基板 制造 | ||
【主权项】：
1.一种偏光膜，设置于一基板上，该偏光膜包括：一无机氮化硅层，设置于该基板上；一无机氧化硅层，设置于该无机氮化硅层上；以及一金属层，设置于该无机氧化硅层上，且该无机氧化硅层为富含硅的氧化硅层。
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