[发明专利]包含紫外波段与近红外波段的超宽带增透膜的制作方法在审
| 申请号： | 201810397698.3 | 申请日： | 2018-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN108609863A | 公开（公告）日： | 2018-10-02 |
| 发明（设计）人： | 李新南;王烨儒;王晋峰;田杰;黄猛 | 申请（专利权）人： | 中国科学院国家天文台南京天文光学技术研究所 |
| 主分类号： | C03C17/34 | 分类号： | C03C17/34 |
| 代理公司： | 江苏致邦律师事务所 32230 | 代理人： | 栗仲平 |
| 地址： | 210042 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 包含紫外波段与近红外波段的超宽带增透膜的制备方法：以正硅酸乙酯为前驱体、无水乙醇为溶剂、浓氨水为催化剂、去离子水为水解反应物，制备碱催化溶胶，提拉成膜后形成多孔氧化硅作为两层膜的上层；以正硅酸乙酯为前驱体、无水乙醇为溶剂、浓盐酸为催化剂，去离子水为水解反应物，制备酸催化溶胶，将所述碱催化溶胶与酸催化溶胶按一定比例混合，提拉成膜，形成折射率较大的底层薄膜；最后经过高温烘烤，在熔融石英基底表面形成两层氧化硅超宽带增透膜。本发明的增透膜透过带宽大，从300nm到1100nm波段透过率高，紫外透过效果好、膜系结构简单、容易操作、减少了厚度和膜层数，拓宽了带宽区域、膜层具有良好的疏水性和自清洁性。 | ||
| 搜索关键词： | 增透膜 超宽带 制备 近红外波段 水解反应物 正硅酸乙酯 去离子水 提拉成膜 无水乙醇 紫外波段 碱催化 前驱体 酸催化 溶剂 两层 催化剂 多孔氧化硅 带宽区域 底层薄膜 高温烘烤 基底表面 膜系结构 熔融石英 自清洁性 膜层数 浓氨水 浓盐酸 疏水性 透过率 氧化硅 折射率 波段 膜层 上层 制作 | ||
【主权项】：
1.一种包含紫外波段与近红外波段的超宽带增透膜的制备方法，其特征在于，步骤如下：以正硅酸乙酯为前驱体、无水乙醇为溶剂、浓氨水为催化剂、去离子水为水解反应物，制备碱催化溶胶，提拉成膜后形成多孔氧化硅作为两层膜的上层；以正硅酸乙酯为前驱体、无水乙醇为溶剂、浓盐酸为催化剂，去离子水为水解反应物，制备酸催化溶胶，将所述碱催化溶胶与酸催化溶胶按一定比例混合，提拉成膜，形成折射率较大的底层薄膜；最后经过高温烘烤，在熔融石英基底表面形成两层氧化硅超宽带增透膜。
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