[发明专利]一种具有表面电荷区结构的功率器件有效

专利信息
申请号: 201810399461.9 申请日: 2018-04-28
公开(公告)号: CN108550628B 公开(公告)日: 2021-10-22
发明(设计)人: 李琦;张昭阳;李海鸥;陈永和;张法碧;傅涛;鲍婷婷 申请(专利权)人: 桂林电子科技大学
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L29/06
代理公司: 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 代理人: 石燕妮
地址: 541004 广西*** 国省代码: 广西;45
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摘要: 发明提供一种具有表面电荷区结构的功率器件,包括由下至上依次设置的P衬底I(1)、浮空等位层(4)、P衬底II(2)和漂移区(5);所述漂移区(5)上设置有N+漏区、漏电极(10)、栅电极(12)、源电极(11)、N+接触区、P阱(7)以及P+源区;所述漂移区(5)的顶部且位于漂移区内设置有一系列横向且等距离分布的N+电荷区(6)而形成表面电荷区。本发明由于在漂移区表面设置一系列等间距的N+电荷区表面电荷区结构,表面电荷区产生界面电荷,增强了电荷区内电场,提高了器件横向耐压;界面电荷同时增强埋层纵向电场和纵向耐压,降低了漏极附近电场,防止器件表面过早击穿;由于采用等间距N+的表面电荷区结构,工艺简单可行,工艺容差较好,与常规CMOS工艺兼容。
搜索关键词: 一种 具有 表面 电荷 结构 功率 器件
【主权项】:
1.一种具有表面电荷区结构的功率器件,包括由下至上依次设置的P衬底I(1)、浮空等位层(4)、P衬底II(2)和漂移区(5);所述漂移区(5)上设置有N+漏区、漏电极(10)、栅电极(12)、源电极(11)、N+接触区、P阱(7)以及P+源区;其特征在于,所述漂移区(5)的顶部且位于漂移区内设置有一系列横向且等距离分布的N+电荷区(6)而形成表面电荷区。
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