[发明专利]化学机械研磨的抛光垫图像检测系统及方法在审
申请号: | 201810401865.7 | 申请日: | 2018-04-28 |
公开(公告)号: | CN108422321A | 公开(公告)日: | 2018-08-21 |
发明(设计)人: | 李超;古进忠;蔡长益 | 申请(专利权)人: | 睿力集成电路有限公司 |
主分类号: | B24B53/017 | 分类号: | B24B53/017 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 余明伟 |
地址: | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明提供了一种化学机械研磨的抛光垫图像检测系统及方法。化学机械研磨的抛光垫图像检测系统包括:图像采集装置及图像对比处理装置。通过对比待检测抛光垫的表面形貌图像与对应的目标抛光垫表面形貌图像,确定并修复待检测抛光垫的表面缺陷。本发明提供的化学机械研磨的抛光垫图像检测系统及方法提高了抛光垫表面缺陷检测的效率和准确性,降低晶圆出现刮伤报废的风险,改善了晶圆良品率。 | ||
搜索关键词: | 抛光垫 化学机械研磨 图像检测系统 抛光垫表面 晶圆 表面形貌图像 图像采集装置 表面缺陷 处理装置 缺陷检测 图像对比 形貌图像 良品率 检测 刮伤 报废 修复 | ||
【主权项】:
1.一种化学机械研磨的抛光垫图像检测系统,其特征在于,所述化学机械研磨的抛光垫图像检测系统包括:图像采集装置及图像对比处理装置;其中,所述图像采集装置包括:抛光垫放置平台,用于放置待检测抛光垫;XY方向运动平台,位于所述抛光垫放置平台的上方,且与所述抛光垫放置平台具有间距;图像采集器,位于所述抛光垫放置平台的上方,且设置于所述XY方向运动平台上,且可于所述XY方向运动平台沿X方向及Y方向运动,用于对所述待检测抛光垫的表面形貌图像进行采集;及,光源,位于所述图像采集器的外围,用于在所述图像采集器对所述待检测抛光垫的表面进行形貌图像采集时对采集区域进行照射;并且,所述图像对比处理装置与所述图像采集器相连接,用于存储目标抛光垫表面形貌图像,并将所述图像采集器采集的所述待检测抛光垫的表面形貌图像与所述目标抛光垫表面形貌图像比对处理以确定所述待检测抛光垫的表面缺陷。
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