[发明专利]内嵌式触控阵列基板、显示面板及制造方法在审

专利信息
申请号: 201810402217.3 申请日: 2018-04-28
公开(公告)号: CN108511465A 公开(公告)日: 2018-09-07
发明(设计)人: 王威 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;G06F3/041;G02F1/1333;G02F1/1362
代理公司: 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 代理人: 林才桂;刘巍
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明涉及一种内嵌式触控阵列基板、显示面板及制造方法。该内嵌式触控阵列基板包括:基板(10);设于基板(10)上的低温多晶硅薄膜晶体管阵列包括图案化的遮光层(11)和图案化的源漏极层(17);设于所述低温多晶硅TFT阵列上的图案化的平坦层(18);设于平坦层(18)上的图案化的底部透明电极(22);设于底部透明电极(22)上的图案化的钝化层(23);设于钝化层(23)上的图案化的顶部透明电极(24);源漏极层(17)包括与上方底部透明电极(22)相连接的第一走线(171),所述遮光层(11)包括作为触控信号线的第二走线(111),所述第二走线(111)与上方的第一走线(171)相连接。本发明减少一道光罩,减少3次成膜,制程简化,成本降低。
搜索关键词: 图案化 透明电极 走线 阵列基板 内嵌式 触控 显示面板 钝化层 平坦层 源漏极 遮光层 基板 低温多晶硅薄膜晶体管 低温多晶硅TFT 触控信号 成膜 光罩 制程 制造
【主权项】:
1.一种内嵌式触控阵列基板,其特征在于,包括:基板(10);设于基板(10)上的低温多晶硅薄膜晶体管阵列,所述低温多晶硅薄膜晶体管阵列包括图案化的遮光层(11)和图案化的源漏极层(17);设于所述低温多晶硅薄膜晶体管阵列上的图案化的平坦层(18);设于平坦层(18)上的图案化的底部透明电极(22);设于底部透明电极(22)上的图案化的钝化层(23);设于钝化层(23)上的图案化的顶部透明电极(24);所述源漏极层(17)包括与底部透明电极(22)相连接的第一走线(171),所述遮光层(11)包括作为触控信号线的第二走线(111),所述第二走线(111)与第一走线(171)相连接。
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