[发明专利]一种快速制备大尺寸单晶石墨烯的方法在审

专利信息
申请号: 201810404071.6 申请日: 2018-04-28
公开(公告)号: CN108441951A 公开(公告)日: 2018-08-24
发明(设计)人: 王帅;郭巍;池凯 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: C30B29/02 分类号: C30B29/02;C30B25/00
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 曹葆青;李智
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明属于石墨烯合成技术领域,具体涉及化学气相沉积法合成单层大尺寸单晶石墨烯材料的方法。向化学气相沉积系统中通入预先配置好的标准混合气体,所述标准混合气体为高纯甲烷、高纯氢气和高纯氩气的混合气,在铜箔表面进行化学气相沉积生长获得大尺寸单晶石墨烯;其中甲烷作为石墨烯生长的碳源,所述铜箔作为石墨烯的生长催化基底。本发明通过改变化学气相沉积系统混合气体的供气方式,从而提高反应混合气的纯度,最终达到高重复率快速制备大尺寸单晶石墨烯的目的。
搜索关键词: 石墨烯 大尺寸单晶 化学气相沉积系统 标准混合气体 化学气相沉积 快速制备 反应混合气 石墨烯材料 高纯甲烷 高纯氢气 高纯氩气 供气方式 合成技术 混合气体 生长催化 铜箔表面 预先配置 高重复 混合气 生长 甲烷 单层 基底 铜箔 合成
【主权项】:
1.一种快速制备大尺寸单晶石墨烯的方法,其特征在于,向化学气相沉积系统中通入预先配置好的标准混合气体,所述标准混合气体为高纯甲烷、高纯氢气和高纯氩气的混合气,在铜箔表面进行化学气相沉积生长获得大尺寸单晶石墨烯;其中甲烷作为石墨烯生长的碳源,所述铜箔作为石墨烯的生长催化基底。
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