[发明专利]强干扰条件下覆盖型岩溶多线联测勘察方法

摘要

本发明公开了强干扰条件下覆盖型岩溶多线联测勘察方法。它包括如下步骤：区域地质与区域水文地质背景研究，搜集分析区域地质与区域水文地质背景资料及前期勘察资料，针对工程类型、设计方案和前期勘察资料，确定勘探点间距、物探CT剖面线网布置形式；采用直观的方法，对钻孔获取的岩芯进行观察，并采用钻孔彩色电视进行孔内溶洞或土洞的原位观察，成像系统进行孔壁图像实时采集，全孔壁展开一次成像；根据钻探了解溶洞分布、形态、规模的基本发育规律；根据物探成果进行异常点综合解释和圈定，将不同CT剖面上圈定的异常区进行平面投影合成；综合钻孔、试验、物探及水文地质条件分析岩溶发育规律。本发明具有能准确反映岩溶发育情况的优点。

主权项

1.强干扰条件下覆盖型岩溶多线联测勘察方法，其特征在于：包括如下步骤：步骤1：区域地质与区域水文地质背景研究；搜集分析区域地质与区域水文地质背景资料及前期勘察资料，针对工程类型、设计方案和前期勘察资料，确定勘探点布置方式、间距、物探CT剖面线网布置形式；步骤2：钻探，采用直观的方法，对钻孔获取的岩芯进行观察描述，并采用钻孔彩色电视进行孔内溶洞或土洞的原位观察，成像系统进行孔壁图像实时采集，全孔壁展开一次成像；根据岩芯溶蚀特点、钻进感觉、掉钻记录和孔内录像资料了解溶洞和土洞分布、形态、规模的基本发育规律；步骤3：物探，利用钻孔进行跨孔CT层析成像，在有地下水耦合条件下采用以弹性波CT为主、电磁波CT为辅的物探方法；在无地下水耦合条件下采用电磁波为主的物探方法；根据视吸收系数变化进行异常点综合解释和圈定，并根据地层构造特征和岩溶发育基本规律，将不同CT剖面上圈定的异常区进行平面投影合成；步骤4：综合钻孔、试验、物探及水文地质条件分析岩溶发育规律；分析岩溶与工程结构的相互关系，提出相应治理措施。