[发明专利]激光同轴聚焦装置在审
| 申请号： | 201810409253.2 | 申请日： | 2018-05-02 |
| 公开（公告）号： | CN110441896A | 公开（公告）日： | 2019-11-12 |
| 发明（设计）人： | 潘保青 | 申请（专利权）人： | 上海晟昶光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B17/06 | 分类号： | G02B17/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201800 上海市嘉*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种激光同轴聚焦装置，包括激光输入端口、平面镜、第一凹面镜、第二凹面镜，能够解决以CO2激光为代表的各类红外激光与指示激光经聚焦所形成的焦点直径不一致，焦点无法完全重合，甚至无法同轴的情况，采用反射的方法来代替折射的方法使指示激光与以CO2激光为代表的各类红外激光完全同轴重合，使得显微激光能够广泛应用于以医疗行业为代表的各领域。 | ||
| 搜索关键词： | 激光 同轴 红外激光 聚焦装置 凹面镜 重合 激光输入 医疗行业 不一致 平面镜 焦点 显微 反射 聚焦 折射 应用 | ||
【主权项】：
1.一种激光同轴聚焦装置，其特征在于，包括激光输入端口、双面平镜、第一凹面镜、第二凹面镜，所述双面平镜中心设有小孔，所述第一凹透镜、小孔、第二凹面镜位于本装置的同一光轴线，所述双面平镜与光轴线夹角为45°，所述双面平镜包括第一平面镜，第二平面镜，所述第一凹面镜和第二凹面镜分别位于双面平镜的两边，所述第一平面镜面向第一凹面镜的凹面，第二平面镜面向第二凹面镜的凹面。
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