[发明专利]一种具有倒装结构的紫外发光二极管有效

专利信息
申请号: 201810412782.8 申请日: 2018-05-03
公开(公告)号: CN108831971B 公开(公告)日: 2019-09-10
发明(设计)人: 张雄;吴自力;庄喆;崔一平 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06;H01L33/10;H01L33/14
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 柏尚春
地址: 211189 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供了一种具有倒装结构的紫外发光二极管,其该二极管自下而上依次为衬底、AlN成核层、非掺杂AlN或者AlaGa1‑aN缓冲层、n型AlbGa1‑bN区、AlcGa1‑cN‑AldGa1‑dN多量子阱有源区、BN电子阻挡层、AleGa1‑eN‑BN布拉格反射镜结构p型区、重掺p型GaN层、ITO导电层、在ITO导电层上设置有p型欧姆电极,在n型AlbGa1‑bN层上设置有n型欧姆电极,且n型欧姆电极与除n型AlbGa1‑bN层以外的其他区域绝缘。该二极管有效提高了紫外LED的发光效率,同时大幅降低紫外LED的开启电压和电阻率。
搜索关键词: 紫外发光二极管 二极管 倒装结构 紫外LED 多量子阱有源区 布拉格反射镜 电子阻挡层 发光效率 开启电压 成核层 电阻率 非掺杂 缓冲层 衬底 绝缘
【主权项】:
1.一种具有倒装结构的紫外发光二极管,其特征在于:该二极管包括自下而上依次接触设置的衬底(101)、AlN成核层(102)、非掺杂AlN或者AlaGa1‑aN缓冲层(103)、n型AlbGa1‑bN区(104)、AlcGa1‑cN‑AldGa1‑dN多量子阱有源区(105)、BN电子阻挡层(106)、AleGa1‑eN‑BN布拉格反射镜结构p型区(107)、重掺p型GaN层(108)和ITO导电层(109),在ITO导电层(109)上接触设置有p型欧姆电极(110),在n型AlbGa1‑bN层(104)上还接触设置有n型欧姆电极(111),n型欧姆电极(111)向上贯穿其他区域并伸出ITO导电层(109),n型欧姆电极(111)与除n型AlbGa1‑bN区(104)以外的其他区域之间设置有绝缘层(112),其中0<c<a、b、d、e<1。
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