[发明专利]一种多层膜X射线波带片的制备方法有效
| 申请号： | 201810413498.2 | 申请日： | 2018-05-03 |
| 公开（公告）号： | CN108538425B | 公开（公告）日： | 2020-04-24 |
| 发明（设计）人： | 李艳丽;孔祥东;韩立 | 申请（专利权）人： | 中国科学院电工研究所 |
| 主分类号： | G21K7/00 | 分类号： | G21K7/00 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人： | 关玲 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种多层膜X射线波带片的制备方法，首先根据设计的波带片高度，在作为波带片主体支撑的中心细丝(1)的侧表面进行选择性遮挡，随后采用薄膜沉积方法在中心细丝(1)表面交替沉积两种薄膜材料，该多层膜作为波带片的环带结构，每层薄膜的厚度沿径向按波带片的设计需求逐层递减，在多层膜的外表面再沉积一层保护膜，完成沉积后去除中心细丝(1)上的遮挡物，在中心细丝(1)上得到多个多层膜波带片结构，然后利用离子束对每个多层膜截面进行刻蚀、抛光，最后在无多层膜处切断中心细丝(1)，即可得到所需波带片。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 多层 射线 波带片 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种多层膜X射线波带片的制备方法，其特征在于：所述的制备方法首先根据设计的波带片高度，在作为波带片主体支撑的中心细丝(1)的侧表面进行选择性遮挡，随后采用薄膜沉积方法在中心细丝(1)表面交替沉积两种薄膜材料，该多层膜作为波带片的环带结构，每层薄膜的厚度沿径向按波带片的设计需求逐层递减，在多层膜的外表面再沉积一层保护膜，完成沉积后去除中心细丝(1)上的遮挡物，在中心细丝(1)上得到多个多层膜波带片结构，然后利用离子束对每个多层膜截面进行刻蚀、抛光，最后在无多层膜处切断中心细丝(1)，即可得到所需波带片。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院电工研究所，未经中国科学院电工研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810413498.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
