[发明专利]硅片单面制备纳米绒面的设备及太阳能电池片的生产设备在审
| 申请号： | 201810415790.8 | 申请日： | 2018-05-03 |
| 公开（公告）号： | CN108400182A | 公开（公告）日： | 2018-08-14 |
| 发明（设计）人： | 邹帅;叶晓亚;曹芳;王栩生;邢国强 | 申请（专利权）人： | 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;阿特斯阳光电力集团有限公司 |
| 主分类号： | H01L31/0236 | 分类号： | H01L31/0236;H01L31/18;C30B29/06;C30B33/10 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 巩克栋 |
| 地址： | 215129 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种硅片单面制备纳米绒面的设备，所述设备包括：微米绒面刻蚀液槽，用于装盛微米绒面刻蚀液；纳米绒面刻蚀液槽，用于装盛纳米绒面刻蚀液；第一机械臂，用于抓取装载有硅片叠加结构的第一硅片装载夹具，并分别置入微米绒面刻蚀液槽和纳米绒面刻蚀液槽；所述硅片叠加结构为相互叠加的两片硅片。本发明使用机械臂将置于硅片装载夹具中的硅片叠加结构直接置入微米绒面的刻蚀液槽、纳米绒面的刻蚀液槽，不需要进入拆片装置，解决了刻蚀液、刻蚀工艺的浪费问题，解决了刻蚀后的硅片变薄，带来碎片率增加的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 刻蚀液 硅片 绒面 叠加结构 硅片装载夹具 机械臂 制备 太阳能电池片 抓取 刻蚀工艺 生产设备 片装置 碎片率 变薄 刻蚀 叠加 装载 | ||
【主权项】：
1.一种硅片单面制备纳米绒面的设备，其特征在于，所述设备包括：微米绒面刻蚀液槽，用于装盛微米绒面刻蚀液；纳米绒面刻蚀液槽，用于装盛纳米绒面刻蚀液；第一机械臂，用于抓取装载有硅片叠加结构的第一硅片装载夹具，并分别置入微米绒面刻蚀液槽和纳米绒面刻蚀液槽；所述硅片叠加结构为相互叠加的两片硅片。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;阿特斯阳光电力集团有限公司，未经苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;阿特斯阳光电力集团有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810415790.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
