[发明专利]一种干膜显影方法在审
| 申请号： | 201810418538.2 | 申请日： | 2018-05-04 |
| 公开（公告）号： | CN108398859A | 公开（公告）日： | 2018-08-14 |
| 发明（设计）人： | 汪培;韩玉成;张弦;廖东 | 申请（专利权）人： | 中国振华集团云科电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 昆明合众智信知识产权事务所 53113 | 代理人： | 张玺 |
| 地址： | 550000 贵州省贵*** | 国省代码： | 贵州;52 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种干膜显影方法，包括以下步骤：(1)将干膜显影槽用去离子水清洗干净；(2)向干膜显影槽中加入干膜显影剂；(3)将待显影的基片放入所述干膜显影剂中，喷淋浸泡；(4)在显影过程中，采用软毛刷轻微的来回刷洗基片干膜表面；(5)显影结束之后，取出已显影的基片，清洗干净，并吹干。本发明使用软毛刷轻微的来回刷洗并减少絮状层对产品的影响，经过多批次验证，本发明起到很大的改善，齿状边缘出现的频率(从60％降为10％)，同时显影矛盾的解决和效率提升，生产速率得到了明显的改善。增加了显影效率(速度由5m/30s～7m/30s降至2m/30s)，因此本发明有效的增加显影质量，减少锯齿状边缘出现的频率，增加了显影效率。 | ||
| 搜索关键词： | 显影 干膜 显影效率 软毛刷 显影槽 显影剂 清洗 锯齿状边缘 齿状边缘 干膜表面 去离子水 显影过程 效率提升 絮状层 吹干 放入 喷淋 浸泡 取出 验证 矛盾 生产 | ||
【主权项】：
1.一种干膜显影方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)将干膜显影槽用去离子水清洗干净；(2)向干膜显影槽中加入干膜显影剂；(3)将待显影的基片放入所述干膜显影剂中，喷淋浸泡；(4)在显影过程中，采用软毛刷轻微的来回刷洗基片干膜表面；(5)显影结束之后，取出已显影的基片，清洗干净，并吹干。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国振华集团云科电子有限公司，未经中国振华集团云科电子有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810418538.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种气体隔离装置及隔离方法
- 下一篇：一种半导体激光器芯片金属的剥离方法
