[发明专利]一种硅太阳能电池及其制备方法有效
申请号: | 201810421099.0 | 申请日: | 2018-05-04 |
公开(公告)号: | CN108461580B | 公开(公告)日: | 2019-08-23 |
发明(设计)人: | 张军 | 申请(专利权)人: | 南通北外滩建设工程有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 226100 江苏省南*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种硅太阳能电池及其制备方法,该方法包括以下步骤:在N型单晶硅片的上表面制备硅纳米线阵列、第一界面修饰层的制备、第二界面修饰层的制备、第一PEDOT:PSS层的制备、第二PEDOT:PSS层的制备、在所述第二PEDOT:PSS层的整个表面热蒸镀金属铜、正面栅电极的制备以及背面电极的制备。通过改善硅基核壳结构光伏电池的结构以及制备工艺,有效提高了本发明的硅太阳能电池的光电转换效率。 | ||
搜索关键词: | 制备 硅太阳能电池 界面修饰 光电转换效率 硅纳米线阵列 正面栅电极 背面电极 光伏电池 核壳结构 整个表面 制备工艺 金属铜 热蒸镀 上表面 硅基 | ||
【主权项】:
1.一种硅太阳能电池的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)在N型单晶硅片的上表面制备硅纳米线阵列,然后在HF溶液中浸泡以去除所述硅纳米线阵列中单个硅纳米线的表面的自然氧化硅;(2)第一界面修饰层的制备:在步骤(1)得到的N型单晶硅片的上表面旋涂含有乙醇铪和Spiro‑OMeTAD的第一混合溶液,其中所述第一混合溶液中乙醇铪的浓度为0.4‑0.8mg/ml,Spiro‑OMeTAD的浓度为3‑5mg/ml,旋涂的转速为5500‑6000转/分钟,然后进行第一次退火处理,形成所述第一界面修饰层;(3)第二界面修饰层的制备:在步骤(2)得到的N型单晶硅片的上表面旋涂含有乙醇铪和Spiro‑OMeTAD的第二混合溶液,其中所述第二混合溶液中乙醇铪的浓度为0.1‑0.3mg/ml,Spiro‑OMeTAD的浓度为6‑8mg/ml,旋涂的转速为5000‑5500转/分钟,然后进行第二次退火处理,形成所述第二界面修饰层;(4)第一PEDOT:PSS层的制备:在步骤(3)得到的n型硅片的正面旋涂PEDOT:PSS溶液,旋涂的转速为4500‑5000转/分钟,然后进行第三次退火处理,形成所述第一PEDOT:PSS层;(5)第二PEDOT:PSS层的制备:在步骤(4)得到的n型硅片的正面旋涂含有银纳米线和石墨烯的PEDOT:PSS溶液,旋涂的转速为3000‑3500转/分钟,然后进行第四次退火处理,形成所述第二PEDOT:PSS层(6)在所述第二PEDOT:PSS层的整个表面热蒸镀金属铜,其中,热蒸镀金属铜的速率均为1‑2埃米/秒,每次蒸镀金属铜的时间均为3‑6秒;(7)正面栅电极的制备;(8)背面电极的制备。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南通北外滩建设工程有限公司,未经南通北外滩建设工程有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810421099.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的