[发明专利]新型制备不粘锅涂层的方法在审
申请号: | 201810427145.8 | 申请日: | 2018-05-07 |
公开(公告)号: | CN108611622A | 公开(公告)日: | 2018-10-02 |
发明(设计)人: | 吴明忠;湛兰;李慕勤;闫洪泽 | 申请(专利权)人: | 佳木斯大学 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/40;A47J36/02;C23C16/02 |
代理公司: | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 | 代理人: | 贾泽纯 |
地址: | 154007 黑龙江省佳*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 新型制备不粘锅涂层的方法,本发明涉及材料表面处理技术领域,具体涉及新型制备不粘锅涂层的方法。本发明是要解决现有市售的Teflon不粘锅涂层抗划擦性能差,寿命低的问题。方法:本发明利用金属网与金属锅体形成空心阴极封闭体,利用“空心阴极效应”产生的高等离子体密度以及DLN膜层结构。本发明用于制备不粘锅涂层。 | ||
搜索关键词: | 不粘锅涂层 制备 材料表面处理技术 等离子体 空心阴极效应 金属锅体 空心阴极 膜层结构 封闭体 金属网 | ||
【主权项】:
1.新型制备不粘锅涂层的方法,其特征在于新型制备不粘锅涂层的方法是按以下步骤进行:一、空心阴极结构制备:将金属网(3)与金属锅(2)连接形成封闭腔体,然后放置在真空室(1)内的绝缘柱上,将金属网(3)与高频高压脉冲电源(7)的高压脉冲输出端相连;二、溅射清洗:将真空室(1)抽真空,待真空室(1)内的真空度小于10‑3Pa时,通入氮气或混合气体至真空室(1)内的真空度为1~3Pa,开启高频高压脉冲电源(7),调整高频高压脉冲电源输出,在金属网(3)与金属锅(2)体形成的封闭体内产生空心阴极放电,高能Ar+和H+溅射清洗锅体内表面,对清洁后的金属网(3)与金属锅(2)进行溅射清洗;所述混合气体为氩气与氢气的混合气体;三、Si过渡层制备:①:向真空室(1)内通入含Si元素气体1~5s,开启高频高压脉冲电源(7),调节高频高压电源输出脉冲电压值为1~6kV;②:采用高能氩离子轰击8~10min;③:连续重复第①步和第②步5~10次,形成Si元素与基体金属混杂层;四、DLN膜制备:向真空室(1)内通入碳前驱体和含有硅元素及氧元素的气体进行DLN不粘涂层的制备。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳木斯大学,未经佳木斯大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810427145.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种去镀层打标机
- 下一篇:抑制固体介质材料二次电子产额的喷涂镀膜装置及方法
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的