[发明专利]一种基于深度的光场拼接方法有效
| 申请号： | 201810428591.0 | 申请日： | 2018-05-07 |
| 公开（公告）号： | CN108921781B | 公开（公告）日： | 2020-10-02 |
| 发明（设计）人： | 金欣;王培;戴琼海 | 申请（专利权）人： | 清华大学深圳研究生院 |
| 主分类号： | G06T3/40 | 分类号： | G06T3/40;G06T7/33;G06T7/162;G06K9/62 |
| 代理公司： | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人： | 方艳平 |
| 地址： | 518055 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于深度的光场拼接方法，包括：输入待拼接的光场以及该光场的子孔径图像，对光场的子孔径图像进行光场深度估计得到光场的深度图；提取光场的子孔径图像中的特征点，对特征点进行匹配得到特征点对，对特征点对进行筛选得到匹配特征点对；将待拼接的光场进行4D网格化，根据匹配特征点对预测全局单应性变换矩阵；并根据特征点与网格中心点的深度和位置关系建立权值矩阵；再根据全局单应性变换矩阵和权值矩阵来预测每个网格的最优单应性变换矩阵，并根据光场中每个网格的最优单应性变换矩阵映射光场对光场进行融合，得到光场拼接结果。本发明解决了较大视差变化造成结果错位和重影的问题，实现了精确的视差容忍的光场拼接方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 深度 拼接 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基于深度的光场拼接方法，其特征在于，包括以下步骤：A1：输入待拼接的光场以及该光场的子孔径图像，对光场的子孔径图像进行光场深度估计得到光场的深度图；A2：提取光场的子孔径图像中的特征点，对特征点进行匹配得到特征点对，对特征点对进行筛选得到匹配特征点对；A3：将待拼接的光场进行4D网格化，根据匹配特征点对预测全局单应性变换矩阵；并根据特征点与网格中心点的深度和位置关系建立权值矩阵；再根据全局单应性变换矩阵和权值矩阵来预测每个网格的最优单应性变换矩阵，并根据光场中每个网格的最优单应性变换矩阵映射光场；A4：对光场进行融合，得到光场拼接结果。
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