[发明专利]彩膜基板及其制备方法、显示装置在审
| 申请号： | 201810433296.4 | 申请日： | 2018-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN108594519A | 公开（公告）日： | 2018-09-28 |
| 发明（设计）人： | 江志雄 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 钟子敏 |
| 地址： | 518000 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种彩膜基板及其制备方法、显示装置，该彩膜基板包括衬底基板；复合层，形成于衬底基板上，复合层包括间隔设置的多个黑色矩阵和第一平坦化层，第一平坦化层至少填充于黑色矩阵之间；彩色滤光层，形成于复合层上；第二平坦化层，形成于彩色滤光层上；隔垫物，形成于第二平坦化层上。通过上述方式，本申请能够提高彩色滤光层表面的平整性，减小彩色滤光层和黑色矩阵重叠部分之间的断差，提升液晶显示的品质。 | ||
| 搜索关键词： | 彩色滤光层 平坦化层 彩膜基板 黑色矩阵 复合层 衬底基板 显示装置 制备 间隔设置 液晶显示 隔垫物 平整性 断差 减小 申请 填充 | ||
【主权项】：
1.一种彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板包括：衬底基板；复合层，形成于所述衬底基板上，所述复合层包括间隔设置的多个黑色矩阵和第一平坦化层，所述第一平坦化层至少填充于所述黑色矩阵之间；彩色滤光层，形成于所述复合层上；第二平坦化层，形成于所述彩色滤光层上；隔垫物，形成于所述第二平坦化层上。
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