[发明专利]可调的降低光学表面反射率的方法有效
申请号: | 201810438500.1 | 申请日: | 2018-05-09 |
公开(公告)号: | CN108614313B | 公开(公告)日: | 2020-09-01 |
发明(设计)人: | 王孝东;陈波 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
主分类号: | G02B1/115 | 分类号: | G02B1/115;G02B27/00 |
代理公司: | 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 | 代理人: | 赵勍毅 |
地址: | 130033 吉林省长春*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 本发明公开了一种可调的降低光学表面反射率的方法,包括以下步骤:根据所需的光学表面反射率、二维材料薄膜的厚度、自由空间的光学导纳、二维材料薄膜的光学导纳以及目标光学基底的光学导纳来计算所述二维材料薄膜的堆积层数;根据计算的所述二维材料薄膜的堆积层数,将所述二维材料薄膜沉积到所述目标光学基底上。本发明通过在目标光学基底表面上沉积不同层数的二维材料薄膜,可对目标光学基底表面的反射率进行调制,具有宽波段和宽角度、简单易操作的有益效果。 | ||
搜索关键词: | 可调 降低 光学 表面 反射率 方法 | ||
【主权项】:
1.一种可调的降低光学表面反射率的方法,其特征在于,包括以下步骤:根据所需的光学表面反射率、二维材料薄膜的厚度、自由空间的光学导纳、二维材料薄膜的光学导纳以及目标光学基底的光学导纳来计算所述二维材料薄膜的堆积层数;根据计算的所述二维材料薄膜的堆积层数,将所述二维材料薄膜沉积到所述目标光学基底上。
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