[发明专利]光刻装置和制造物品的方法在审
| 申请号： | 201810439920.1 | 申请日： | 2018-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN108873611A | 公开（公告）日： | 2018-11-23 |
| 发明（设计）人： | 辻川卓朗 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 宋岩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 公开了光刻装置和制造物品的方法。在执行图案化之前，光刻装置执行用于通过第一模板匹配获得基板上的标记的位置的第一处理，并且在基于通过第一处理获得的标记的位置执行图案化的同时，执行用于通过与第一模板匹配不同的第二模板匹配获得标记的位置的第二处理，执行第三处理，第三处理用于基于通过第二处理获得的标记的位置执行由第一处理在第一模板匹配中使用的模板的改变以获得要由第一处理在第一模板匹配中使用的模板。 | ||
| 搜索关键词： | 模板匹配 光刻装置 制造物品 图案化 基板 | ||
【主权项】：
1.一种能操作以在基板上执行图案化的光刻装置，其特征在于，所述光刻装置包括：台，被配置为在保持上面形成有标记的基板的同时能移动；成像设备，被配置为对形成在由所述台保持的基板上的标记进行成像以获得标记的图像；处理器，被配置为处理所述图像以获得标记的位置；和图案化设备，被配置为在由所述台保持的基板上执行图案化，所述台基于由所述处理器获得的所述标记的位置移动，其中处理器基于通过第一处理获得的标记的位置执行第二处理，所述第一处理用于通过第一模板匹配获得标记的位置，所述第二处理通过第二模板匹配获得标记的位置，所述第二模板匹配比第一模板匹配对于获得标记的位置具有更高的精度，并且基于在第二处理中获得的标记的位置执行第三处理，所述第三处理用于执行第一处理中的第一模板匹配中使用的模板的改变以获得要由第一处理在第一模板匹配中使用的模板。
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