[发明专利]有纹理的自清洁膜系统以及用于形成该膜系统的方法

摘要

一种自清洁膜系统包括基底和在该基底上设置的抗反射膜。抗反射膜包括由二氧化钛形成的第一片材，由二氧化硅形成并在第一片材上设置的第二片材，和由二氧化钛形成并在第二片材上设置的第三片材。该系统包括自清洁膜，该自清洁膜在该抗反射膜上设置并包括单层，该单层在第三片材上设置并由氟化材料形成，所述氟化材料选自由氟化有机化合物、氟化无机化合物和它们的组合组成的组。该自清洁膜包括在单层之内设置的第一组多个区域，以使得第一组多个区域中的每个邻接氟化材料并由该氟化材料围绕，并包括光催化材料。

主权项

1.一种自清洁膜系统，包括：基底；和在所述基底上设置的抗反射膜，且所述抗反射膜包括：由二氧化钛形成的第一片材；由二氧化硅形成并设置在所述第一片材上的第二片材；和由二氧化钛形成并设置在所述第二片材上的第三片材；设置在所述抗反射膜上的自清洁膜，且所述自清洁膜包括：设置在所述第三片材上并由氟化材料形成的单层，所述氟化材料选自由氟化有机化合物、氟化无机化合物和它们的组合组成的组；和在所述单层之内设置的第一多个区域，以使得所述第一多个区域中的每个邻接所述氟化材料并由所述氟化材料围绕，其中，所述第一多个区域中的每个包括光催化材料。