[发明专利]一种双面同步电解加工阵列微沟槽的装置及方法

摘要

本发明提供的一种双面同步电解加工阵列微沟槽的装置，包括供电模块、电解液模块、夹具和五层结构，五层结构由上阴极块、上遮蔽模板、待加工工件、下遮蔽模板和下阴极块依次贴合形成；夹具内形成腔体；五层结构在腔体内被夹具压紧，用于分隔腔体；上下遮蔽模板都开有上下贯穿的微流道，上下阴极块与微流道对齐，使得电解液从微流道流过时加工该工件。本发明通过五层结构将各个加工区隔离，通过微流道设计出侧向冲液更好地冲刷杂质，通过上下阴极块规划出垂直电场使得加工精度更高，通过夹具压紧五层结构使得工件不会抖动，能够在金属工件上下表面同时高效加工出尺寸一致性好、加工精度高、表面质量好的阵列微沟槽结构。本发明还提供加工方法。

主权项

1.一种双面同步电解加工阵列微沟槽的装置，其特征在于，包括供电模块、电解液模块、夹具、上阴极块、待加工工件、上遮蔽模板、下遮蔽模板和下阴极块；/n所述夹具内形成腔体，所述腔体设置有入液口和出液口，用于输入输出电解液；/n所述上阴极块、所述上遮蔽模板、所述待加工工件、所述下遮蔽模板和所述下阴极块依次贴合形成五层结构，所述五层结构被所述夹具压紧，其中，所述夹具具体包括下夹具体和上夹具体，所述下夹具体和所述上夹具体能够锁紧组合形成所述夹具；所述下夹具体和所述上夹具体均开有所述入液口和所述出液口；/n所述五层结构设置在所述腔体内部，所述上阴极块和所述下阴极块与所述腔体内壁贴合，所述上遮蔽模板、所述待加工工件、所述下遮蔽模板的四边与所述腔体内壁贴合，用于分隔所述腔体；/n所述上遮蔽模板和所述下遮蔽模板都开有上下贯穿的微流道，所述上阴极块和所述下阴极块与所述微流道对齐，使得所述电解液从分隔的所述腔体一边通过所述微流道流到另一边时加工所述待加工工件，其中，上阴极块或下阴极块对齐于微流道中央，微流道上超出上阴极块或下阴极块的部分为微流道入液口或微流道出液口，用于连通分隔的腔体；/n所述供电模块的正极连接所述待加工工件，负极连接所述上阴极块和所述下阴极块；/n所述电解液模块连通所述入液口和所述出液口，用于输送并回收电解液。/n