[发明专利]光机调节系统及方法有效
| 申请号： | 201810445206.3 | 申请日： | 2018-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN110471246B | 公开（公告）日： | 2021-02-02 |
| 发明（设计）人： | 顾佳琦;郭祖强;李屹 | 申请（专利权）人： | 深圳光峰科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03B21/20 | 分类号： | G03B21/20;G02B27/48 |
| 代理公司： | 深圳市智圈知识产权代理事务所(普通合伙) 44351 | 代理人： | 苗燕 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南山区*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种光机调节系统及方法，涉及投影技术领域。该光机调节系统包括：光源；预处理组件，与光源相对间隔设置，预处理组件包括从物侧至像侧依次设置的吸光阵列、匀光单元、偏振单元和第一聚光镜，匀光单元设置有由多个微透镜单元组成的微透镜阵列，吸光阵列包括与多个微透镜单元对应设置的多个吸光区域，吸光区域与微透镜阵列上对应的微透镜单元的中心重合；分光组件，设置于第一聚光镜的像侧；以及投影组件，设置于分光组件的像侧，投影组件包括合光单元、镜头。本发明能够有效提升调节3LCD光机漏边时的准确性，提高良率，降低成本。 | ||
| 搜索关键词： | 调节 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光机调节系统，其特征在于，包括：/n光源；/n预处理组件，与所述光源相对间隔设置，所述预处理组件包括从物侧至像侧依次设置的吸光阵列、匀光单元、偏振单元和第一聚光镜，所述匀光单元设置有由多个微透镜单元组成的微透镜阵列，所述吸光阵列包括与多个所述微透镜单元对应设置的多个吸光区域，所述吸光区域与所述微透镜阵列上对应的所述微透镜单元的中心重合；/n分光组件，设置于所述第一聚光镜的像侧；以及/n投影组件，设置于所述分光组件的像侧，所述投影组件包括合光单元、镜头，/n由所述光源发出的光依次经过所述预处理组件和所述分光组件形成多个中心具有无光区域的单色光斑，再依次经过所述合光单元和所述镜头投射到外界。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳光峰科技股份有限公司，未经深圳光峰科技股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810445206.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
