[发明专利]一种高导磁胚表面处理工艺

摘要

本发明公开了一种高导磁胚表面处理工艺，包括依次连接的进料端、输送段和加工段，输送段包括水平运输带、翻转组件和合拢组件，翻转组件包括至少两道使磁胚从水平翻转成竖直状态的螺纹导柱，合拢组件包括多道和螺纹导柱连通的滑动槽、连接于滑动槽的端部用于使多块磁胚相互贴合的推动装置，且多道滑动槽的端部逐渐靠拢设置。本发明通过上述设置，磁胚在加工成型后直接进入水平运输带上，经过翻转组件的作用后能够及时调整角度，为下一步的相合工作面打磨做准备，由于还经过合拢组件的调整，使得多片磁胚能够相互靠拢抵接，增大底部的受力面积，在打磨时不易倾斜，提高打磨质量，使得磁胚的相合工作面贴合更加严密，进而提高磁胚的工作性能稳定性。

主权项

1.一种高导磁胚表面处理工艺，包括依次连接的进料端(16)、输送段(17)和加工段(18)，其特征在于：所述输送段(17)包括水平运输带(1)、翻转组件(2)和合拢组件(3)，所述翻转组件(2)包括至少两道使磁胚从水平翻转成竖直状态的螺纹导柱(4)，所述合拢组件(3)包括多道和所述螺纹导柱(4)连通的滑动槽(6)、连接于所述滑动槽(6)的端部用于使多块磁胚相互贴合的推动装置(7)，且多道所述滑动槽(6)的端部逐渐靠拢设置。