[发明专利]超薄钯片在促进二氧化碳电还原中的应用有效
| 申请号： | 201810450188.8 | 申请日： | 2018-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN110465290B | 公开（公告）日： | 2022-03-11 |
| 发明（设计）人： | 巩金龙;朱文锦;张雷;杨漂萍;赵志坚 | 申请（专利权）人： | 天津大学 |
| 主分类号： | B01J23/44 | 分类号： | B01J23/44;B01J35/02;C25B1/23;C25B11/081 |
| 代理公司： | 天津创智天诚知识产权代理事务所(普通合伙) 12214 | 代理人： | 王秀奎 |
| 地址： | 300072*** | 国省代码： | 天津;12 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开超薄钯片在促进二氧化碳电还原中的应用，通过溶液热法，通过调控还原剂和表面活性剂的种类、用量和反应时间，合成不同尺寸的规整的六边形钯片，统计不同位点比例，实验与密度泛函理论计算结合，探究活性提升的位点来源。本发明中六边形超薄钯纳米片的生长方法，操作简单，反应条件温和，制备过程可控性，重复性强，无需大型仪器设备，经济可行，同时制备的材料二氧化碳还原性能优越，具有一定工业价值。 | ||
| 搜索关键词： | 超薄 促进 二氧化碳 还原 中的 应用 | ||
【主权项】：
1.超薄钯片在促进二氧化碳电还原中的应用，其特征在于，采用边长小的纳米钯片作为催化剂，以利用催化剂边缘产生的低配位点，以提升二氧化碳电还原的活性和选择性。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津大学，未经天津大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810450188.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
