[发明专利]掩膜板及其制造方法在审
| 申请号： | 201810450851.4 | 申请日： | 2018-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN108517490A | 公开（公告）日： | 2018-09-11 |
| 发明（设计）人： | 单为健;王亚玲;罗志忠;黄俊杰 | 申请（专利权）人： | 云谷（固安）科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 唐清凯 |
| 地址： | 065500 河*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种掩膜板及其制造方法，掩膜板包括：掩膜框架，围合形成蒸镀区；若干间隔排布设置在蒸镀区第一方向上的第一掩膜条；若干间隔排布设置在蒸镀区第二方向上的第二掩膜条；第一掩膜条和第二掩膜条相互交错；第一掩膜条、第二掩膜条以及掩膜框架围合形成的若干蒸镀单元；若干用于调整蒸镀单元蒸镀面积的蒸镀调整结构，蒸镀调整结构设置在第一掩膜条上和/或第二掩膜条上。上述掩膜板，第一掩膜条、第二掩膜条、掩膜框架以及蒸镀调整结构可对被蒸镀屏体进行部分遮挡而避免蒸镀材料在蒸镀调整结构对应位置沉积，因此使被蒸镀屏体形成有与蒸镀单元形状相同的覆盖蒸镀材料的蒸镀区，从而为该遮挡区域的后续切割提供了便利，简化了蒸镀过程。 | ||
| 搜索关键词： | 蒸镀 掩膜条 调整结构 掩膜板 掩膜 间隔排布设置 蒸镀材料 屏体 围合 单元形状 遮挡区域 沉积 遮挡 交错 切割 制造 便利 覆盖 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜板，其特征在于，所述掩膜板包括：掩膜框架，围合形成蒸镀区；若干间隔排布设置在所述蒸镀区第一方向上的第一掩膜条；若干间隔排布设置在所述蒸镀区第二方向上的第二掩膜条；所述第一掩膜条和所述第二掩膜条相互交错；所述第一掩膜条、所述第二掩膜条以及所述掩膜框架围合形成的若干蒸镀单元；若干用于调整所述蒸镀单元蒸镀面积的蒸镀调整结构，设置在所述第一掩膜条上和/或所述第二掩膜条上。
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