[发明专利]用于改善注入束和源寿命性能的碳掺杂剂气体和协流在审
| 申请号： | 201810453542.2 | 申请日： | 2013-02-13 |
| 公开（公告）号： | CN108565198A | 公开（公告）日： | 2018-09-21 |
| 发明（设计）人： | O·比尔;E·A·斯特姆;唐瀛;S·N·耶德卫;J·D·斯威尼;S·G·瑟吉;B·L·钱伯斯 | 申请（专利权）人： | 恩特格里斯公司 |
| 主分类号： | H01J37/08 | 分类号： | H01J37/08;H01J37/317;H01L21/265;H01L31/18;H01L33/00 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 顾晨昕 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本申请涉及用于改善注入束和源寿命性能的碳掺杂剂气体和协流。具体讲，本申请描述了离子注入的方法和系统，其中使用碳掺杂剂源材料实施碳掺杂。描述了各种气体混合物，包括碳掺杂剂源材料，以及用于所述碳掺杂剂的协流气体结合物。描述了在碳掺杂剂源材料中提供原位清洗，以及描述了具体的碳掺杂剂源气体、氢化物气体、氟化物气体、惰性气体、氧化物气体和其他气体的结合物。 | ||
| 搜索关键词： | 碳掺杂剂 源材料 结合物 氟化物气体 气体混合物 氢化物气体 氧化物气体 惰性气体 原位清洗 碳掺杂 源气体 离子 申请 | ||
【主权项】：
1.一种用于离子注入的碳掺杂剂源组合物，所述组合物包括：至少一种碳掺杂剂源材料；一种协流气体；和至少一种额外的气体，其中所述至少一种协流气体或所述至少一种额外的气体包括选自由以下组成的群组的气体：GeH4、SiH4、XeF2、BF3、SF6、GeF4、SiF4、NF3、N2F4、HF、WF6、MoF6、PF3、PF5和B2F4。
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