[发明专利]图像传感器及其形成方法

摘要

一种图像传感器及其形成方法，其中形成方法包括：提供基底，所述基底包括第一区和第二区，所述第一区基底内具有光电掺杂区，所述基底包括相对的第一面和第二面；在所述第二区基底内形成第一开口，所述第一面暴露出第一开口；在所述第一开口内形成连接层，连接层包括相对的第三面和第四面，且第一开口暴露出三面；在所述第三面和第一面形成介质层，所述介质层内具有第一插塞，所述第一插塞与第三面接触；在所述第二区基底内形成第二开口，所述第二面暴露出第二开口，且所述第二开口底部暴露出连接层的第四面。所述方法能够增加量子转化效率的同时，降低形成贯穿基底的开口结构的难度。

主权项

1.一种图像传感器的形成方法，其特征在于，包括：提供基底，所述基底包括第一区和第二区，所述第一区基底内具有光电掺杂区，所述基底包括相对的第一面和第二面；在所述第二区基底内形成第一开口，所述第一面暴露出第一开口；在所述第一开口内形成连接层，所述连接层包括相对的第三面和第四面，且所述第一开口暴露出所述第三面；在所述第三面和第一面形成介质层，所述介质层内具有第一插塞，且所述第一插塞与第三面接触；在所述第二区基底内形成第二开口，所述第二面暴露出第二开口，且所述第二开口底部暴露出连接层的第四面。