[发明专利]相移掩模板、相移掩模光刻设备以及相移掩模板的制作方法在审

专利信息
申请号: 201810459879.4 申请日: 2018-05-15
公开(公告)号: CN108445707A 公开(公告)日: 2018-08-24
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 睿力集成电路有限公司
主分类号: G03F1/26 分类号: G03F1/26
代理公司: 北京市铸成律师事务所 11313 代理人: 张臻贤;武晨燕
地址: 230000 安徽省合肥市*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明提供了一种相移掩模板,将透光区分为不透光区两侧分别相邻的第一透光区和第二透光区,且第一透光区和第二透光区交替分布,由于第一透光区的厚度与第二透光区的厚度之间形成有预设高度差,分别通过第一透光区和第二透光区的两条光束之间形成180度的相位差,使得第一出射光束与第二出射光束抵消于相移掩模板下方的晶圆表面上的暗区图案处,以修正暗区图案,使得在晶圆表面形成的暗区图案的条纹宽度一致,提高了晶圆表面的光刻图形的图像分辨率。本发明还提供了一种相移掩模光刻设备以及一种相移掩模板的制作方法,具有上述技术效果。
搜索关键词: 透光区 掩模板 相移 晶圆表面 暗区 出射光束 光刻设备 相移掩模 图案 图像分辨率 不透光区 光刻图形 技术效果 交替分布 宽度一致 高度差 图案处 相位差 条纹 透光 预设 制作 抵消 修正
【主权项】:
1.一种相移掩模板,其特征在于,包括:不透光的图案覆盖的不透光区;及未被所述图案覆盖的多个第一透光区和第二透光区,所述不透光区形成于所述第一透光区和所述第二透光区之间,且所述第一透光区和所述第二透光区交替分布;其中,透过所述第一透光区的第一出射光束与透过所述第二透光区的第二出射光束之间具有180度的相位差,使得所述第一出射光束与所述第二出射光束抵消于所述相移掩模板下方的晶圆表面上的暗区图案处,以修正所述暗区图案,所述暗区图案与所述不透光区对准。
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