[发明专利]重叠校正方法和使用该方法的控制系统在审
| 申请号： | 201810460915.9 | 申请日： | 2018-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN108873612A | 公开（公告）日： | 2018-11-23 |
| 发明（设计）人： | 李承润;黄灿 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 张泓 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种校正重叠的方法，包括：在第一衬底上形成第一图案；在第一图案上形成第二图案；获得第二图案的第一重叠误差轮廓并从第一重叠误差轮廓获得第一重叠校正轮廓；在第二图案上形成第三图案；获得第三图案的第二重叠误差轮廓并从第二重叠误差轮廓获得第二重叠校正轮廓；以及在第二衬底上形成第二图案，其中在第二衬底上形成第二图案包括：确定第二重叠校正轮廓是否具有不可校正的模型参数；并且当第二重叠校正轮廓具有不可校正的模型参数时，获得初步校正轮廓以校正待在第二衬底上形成的第二图案的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 校正 图案 重叠误差 衬底 模型参数 控制系统 | ||
【主权项】：
1.一种校正重叠的方法，包括：使用第一制造系统在第一衬底上形成第一图案；使用所述第一制造系统在所述第一图案上形成第二图案；获得所述第二图案相对于所述第一图案的第一重叠误差轮廓，并且从所述第一重叠误差轮廓获得第一重叠校正轮廓；使用第二制造系统在所述第二图案上形成第三图案；获得所述第三图案相对于所述第二图案的第二重叠误差轮廓，并且从所述第二重叠误差轮廓获得第二重叠校正轮廓；以及使用所述第一制造系统在第二衬底上形成所述第二图案，其中，在所述第二衬底上形成所述第二图案包括：确定所述第二重叠校正轮廓是否具有不能用于校正所述第二制造系统的控制参数的不可校正的模型参数；以及当所述第二重叠校正轮廓具有所述不可校正的模型参数时，获得所述第一制造系统的初步校正轮廓，以在所述第二衬底上形成所述第二图案之前校正所述第二图案的位置。
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