[发明专利]图案化流体阵列及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 201810464238.8 | 申请日： | 2018-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN108636465B | 公开（公告）日： | 2020-08-14 |
| 发明（设计）人： | 黄占东;李正;苏萌;宋延林 | 申请（专利权）人： | 中国科学院化学研究所 |
| 主分类号： | B01L3/00 | 分类号： | B01L3/00;B01J19/00 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人： | 刘依云;乔雪微 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及材料领域，公开了图案化流体阵列及其制备方法和应用。图案化流体阵列的制备方法，包括：(A)制备具有多个图案化结构单元且具有浸润性质的基底，其中，相邻的两个图案化结构单元之间的距离D与图案化结构单元的尺寸d的比值不小于2；(B)将所述基底与表面平整的基材进行组装，得到具有夹层的微流体装置，然后将流体1注入所述微流体装置并充满夹层，再将流体2注入微流体装置，其中，流体1与流体2不相容；每个图案化结构单元的内部形成图案化流体1，相邻的图案化结构单元之间填充有流体2，得到图案化流体阵列。本发明实现了一种流体在另外一种流体中的精确图案化，且制备方法简单快捷、成本低廉、便于大规模生产。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 流体 阵列 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
1.一种图案化流体阵列的制备方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：(A)制备具有多个图案化结构单元(3)且具有浸润性质的基底(4)，其中，相邻的两个图案化结构单元(3)之间的距离D与图案化结构单元(3)的尺寸d的比值不小于2；(B)将所述基底(4)与表面平整的基材(5)进行组装，得到具有夹层的微流体装置，然后将流体(1)注入所述微流体装置并充满夹层，再将流体(2)注入微流体装置，其中，流体(1)与流体(2)不相容，且流体(1)在流体(2)中，流体(1)在基底(4)的表面的接触角θ12小于90°；每个图案化结构单元(3)的内部形成图案化流体(1)，相邻的图案化结构单元(1)之间填充有流体(2)，得到图案化流体阵列。
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