[发明专利]萧特基二极管有效
申请号: | 201810473287.8 | 申请日: | 2018-05-17 |
公开(公告)号: | CN110504326B | 公开(公告)日: | 2022-10-14 |
发明(设计)人: | 杨承桦;林克峰;李明宗;黄世腾;王智充;李秋德;林淑雯 | 申请(专利权)人: | 联华电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/872 | 分类号: | H01L29/872 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 陈小雯 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开一种萧特基二极管,包含有一萧特基接面、一欧姆接面、一第一绝缘结构以及多个掺杂区。萧特基接面,包含一第一阱位于一基底中,以及一第一电极接触第一阱。欧姆接面,包含一接面区域位于第一阱中,以及一第二电极接触接面区域。第一绝缘结构设置于基底中且将萧特基接面及欧姆接面隔离。多个掺杂区位于第一阱中以及萧特基接面下方,其中此些掺杂区彼此分离且构成一同心圆的俯视轮廓。 | ||
搜索关键词: | 萧特基 二极管 | ||
【主权项】:
1.一种萧特基二极管,其特征在于,包含有:/n萧特基接面,包含第一阱位于一基底中,以及第一电极接触该第一阱;/n欧姆接面,包含接面区域位于该第一阱中,以及第二电极接触该接面区域;/n第一绝缘结构,设置于该基底中且将该萧特基接面及该欧姆接面隔离;以及/n多个掺杂区,位于该第一阱中以及该萧特基接面下方,其中该些掺杂区彼此分离且构成一同心圆的俯视轮廓。/n
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