[发明专利]一种西瓜地套种大豆的方法

摘要

本发明一种西瓜地套种大豆的方法，涉及农作物种植技术领域，具体包括以下步骤：西瓜育苗、土地翻耕、瓜苗移栽、拱棚的放风、拱棚的拆除及落膜、种植大豆、西瓜收获、大豆收获。本发明通过西瓜和大豆种植时间、种植行距、种植品种以及种植管理的合理设计，增加了西瓜及大豆的亩产产量，通过与大豆共生的大豆根瘤菌的固氮作用，减小了西瓜肥料的施加，保证了西瓜口感，同时由于西瓜收获较早，西瓜收获后的瓜苗间可以作为大豆的有机肥料，从而提高了大豆的质量和产量。

主权项

1.一种西瓜地套种大豆的方法，其特征在于，所述方法具体步骤如下：（1）西瓜育苗，在2月12日‑4月15日在专用大棚中进行西瓜嫁接育苗；（2）将土地翻耕，整平，在平整的田地上做南北方向的种植垄，种植垄的中间微高，两侧稍低，种植垄的宽度为1.2‑1.5 m开沟，高度为10‑20 cm，垄的东西坡度为30‑45 cm，每两个垄之间开沟，沟的宽度在20‑30 cm；（3）西瓜苗的移栽：在4月15日‑4月20日，种植垄做好后，将瓜苗按照30‑40cm的株距在条垄中间种植带上栽培，拱棚搭建好后浇一次透水，然后在西瓜苗之间通过搭建拱棚，拱棚使用的弯弓之间的距离为90‑100 cm，每两个弯弓之间有三颗西瓜苗，拱棚高度为30‑40 cm，最后在拱棚上覆盖白色塑料棚膜，四周用土封严；（4）拱棚的放风：拱棚搭建好后，前期不用放风，直到瓜苗团棵时期，白天棚内温度超过32度时进行放风，放风时在瓜苗正上方的棚膜上开3 cm的放风口，随着外界气温升高，逐渐使放风口增大到5cm；（5）拱棚的拆除及落膜：当西瓜进入伸蔓期，外界温度稳定在14‑17度时，拆除拱架Ⅱ，进行落膜，落膜时小心地把瓜苗从上方棚膜Ⅱ开口的放风口处掏出，此时可同时进行除草、松土工作，最后将棚伸展，铺平，压好，变成地膜；（6）在西瓜刚长藤蔓时，种植大豆，在距离西瓜垄两边的50‑60cm处种植大豆，大豆间隔30‑79cm，每边种植两行，（7）6‑7月份收获西瓜，西瓜收获后将西瓜苗将西瓜苗拔出土壤，打上除草剂，施肥，让大豆继续生长；（8）8‑9月后，进行大豆收割。