[发明专利]一类适用于喷墨打印工艺的含硅氧烷侧链的聚芴衍生物及其制备方法和应用有效
申请号: | 201810474704.0 | 申请日: | 2018-05-17 |
公开(公告)号: | CN110498908B | 公开(公告)日: | 2021-10-08 |
发明(设计)人: | 应磊;钟知鸣;黄飞;曹镛 | 申请(专利权)人: | 东莞伏安光电科技有限公司 |
主分类号: | C08G61/12 | 分类号: | C08G61/12;C09D11/30 |
代理公司: | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人: | 李卫东 |
地址: | 523808 广东省东莞*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: |
本发明属于有机光电技术领域,公开了一类适用于喷墨打印工艺的含硅氧烷侧链的聚芴衍生物及其制备方法和应用。本发明的含硅氧烷侧链的聚芴衍生物的结构如下所示,本发明的含有硅氧烷侧链的聚芴衍生物材料结构简单,成本低廉,有利于批量化生产,且光电性能优异。本发明在聚芴衍生物侧链上连接了结构松散的硅氧烷基团,可以降低配置成墨水后的粘度和表面张力,从而可用于喷墨打印制备有机电子器件,如有机薄膜晶体管、有机发光晶体管、有机太阳能电池、有机光电二极管、有机光电晶体管、有机发光电化学电池、有机电致发光二极管器件。 |
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搜索关键词: | 一类 适用于 喷墨 打印 工艺 含硅氧烷侧链 衍生物 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
1.一类适用于喷墨打印工艺的含硅氧烷侧链的聚芴衍生物,其特征在于其结构如下所示:/n /n其中,n1,n2为亚甲基的重复单元数,n1,n2=1~30;n3为聚合物的重复单元数,n3=10~1000;y1为二氧化二苯并噻吩的摩尔百分含量,y1=1~50mol%;y2为含硅氧烷侧链的芴单元摩尔百分含量,y2=1~50mol%;其中y1+y2+y3=1;/nX1、X2相对独立地为亚苯基-C6H4-、-C6H4-O-或化学键;/nR1~R14相对独立地为具有1~10个碳原子的脂肪族有机基团;/nR15~R16相对独立地为选自具有1~20个碳原子的直链烷基、具有1~20个碳原子的直链烷氧基、具有3~20个碳原子的支链或环状的烷基、具有3~20个碳原子的支链或环状的烷氧基、具有2~20个碳原子的烯基或炔基、具有6~40个选自B、O、N、S、P、Si、Se、Ge的杂原子的杂环芳香化合物、具有5~40个选自B、O、N、S、P、Si、Se、Ge的杂原子的杂环芳香化合物。/n
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