[发明专利]一种对地超低副瓣设计方法有效

专利信息
申请号: 201810475678.3 申请日: 2018-05-17
公开(公告)号: CN108736158B 公开(公告)日: 2020-09-18
发明(设计)人: 杨京;李成国;张凯;杨慧杰;胡鹏展;邓江涛 申请(专利权)人: 西安空间无线电技术研究所
主分类号: H01Q3/00 分类号: H01Q3/00;H01Q21/00;H04B7/06
代理公司: 中国航天科技专利中心 11009 代理人: 庞静
地址: 710100*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开一种对地超低副瓣设计方法,其实现步骤是:1.建立坐标系,根据卫星轨道高度,确定对地球区域;2.确定分区进行超低副瓣方向图综合的分区数并确定各分区的初始区域;3.使用改进的交替投影算法对各分区的区域分别单独进行超低副瓣方向图综合,得到对各分区单独进行超低副瓣方向图综合的阵列加权值,确定各超低副瓣方向图的实际作用区域;4.根据主波束的俯仰方向的扫描角度,选择合适的阵列加权值。本发明能够实现大规模平面阵列快速对地球区域进行超低副瓣方向图综合,对地球区域副瓣抑制效果较好,有效减轻对于衰减器动态范围的需求,提高阵列的口径效率,减小增益损失,阵列综合时间短,可满足星载相控阵对地副瓣抑制的需求。
搜索关键词: 一种 超低副瓣 设计 方法
【主权项】:
1.一种对地超低副瓣设计方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)根据卫星轨道高度,确定对地球区域;(2)确定进行超低副瓣方向图综合的分区数Q并确定各分区的区域,应确保各分区的区域作用范围均能覆盖上述对地球区域;依次对上述各分区区域进行如下处理:(3)对当前处理区域Θq进行超低副瓣方向图综合:即以当前处理区域Θq内的最大副瓣电平SLLinΘq以及Θq区域外的最大副瓣电平SLLoutΘq作为优化目标,进行阵列综合,得到综合后的激励以及综合后的方向图(4)确定方向图实际的超低副瓣区域以及激励的适用范围;(5)根据方向图实际的超低副瓣区域对下一个处理区域Θq+1进行初始区域的更新,更新完成后,下一个处理区域即为当前处理区域执行步骤(3)‑(5),直至所有处理区域处理完成,即得到综合后的激励以及各自激励的适用范围
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