[发明专利]光学元件的定量化清洁装置及方法有效
| 申请号： | 201810477935.7 | 申请日： | 2018-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN108941061B | 公开（公告）日： | 2021-02-05 |
| 发明（设计）人： | 韩凯;娄兆凯;闫宝珠;李霄;李志鸿;奚小明;习锋杰;杨轶;程曦 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军国防科技大学 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00 |
| 代理公司： | 长沙国科天河知识产权代理有限公司 43225 | 代理人： | 邱轶 |
| 地址： | 410073 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： |
本发明公开一种用于光学元件的定量化清洁装置及方法，涉及光学元件维护保养技术领域，该方法包括将First Contact清洁剂与配套的稀释液按照预定比例配比；将清洁液按照0.5ml/cm |
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| 搜索关键词： | 光学 元件 量化 清洁 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于光学元件的定量化清洁方法，其特征在于，包括：步骤1，将First Contact清洁剂与所述First Contact清洁剂配套的稀释液按照3.5：1～4.5：1的比例进行配比，获得清洁液；步骤2，将所述清洁液按照0.5ml/cm2～0.8ml/cm2均匀地喷洒在光学元件表面的待清洁区域；步骤3，对喷洒在所述光学元件表面的待清洁区域的清洁液在干燥条件下进行干燥，待清洁液完全干燥后形成保护膜；步骤4，将所述保护膜从所述光学元件表面去除，完成待清洁区域的清洁；步骤5，测量所述光学元件表面的已清洁区域的吸收率是否满足预设值，如果满足则清洁完成；如果不满足则重复上述步骤1～步骤4。
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