[发明专利]处理系统有效
| 申请号： | 201810480108.3 | 申请日： | 2015-09-03 |
| 公开（公告）号： | CN108762010B | 公开（公告）日： | 2019-09-17 |
| 发明（设计）人： | 鬼头义昭;加藤正纪;奈良圭;堀正和 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30;G03F7/24;G03F7/16;G03F9/00;H01L21/67;H01L21/677;B65H18/10;B65H20/02;B65H20/24;B65H20/34;B65H23/188 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 王涛;汤在彦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供提供一种处理系统，即使是在以任一处理装置对片状基板实际实施的处理的状态与目标的处理状态不同时，亦能在无需停止制造系统全体的情形下，进行电子元件的制造的处理系统及元件制造方法。一种将长条的可挠性片状基板(P)沿长条方向依序搬送至第1～第3处理装置(PR2～PR4)的各个，以在片状基板(P)形成既定图案的处理系统(10)，第1～第3处理装置(PR2～PR4)依据设定于各个处理装置的设定条件对片状基板(P)施以既定处理，在第1～第3处理装置(PR2～PR4)的各个中对片状基板(P)实施的实处理状态中的至少一者相对目标的处理状态呈现处理误差(E)的情形时，使呈现处理误差(E)的设定条件以外的其他设定条件因应处理误差(E)变化。 | ||
| 搜索关键词： | 处理装置 片状基板 处理系统 处理状态 设定条件 既定处理 既定图案 元件制造 制造系统 可挠性 制造 | ||
【主权项】：
1.一种处理系统，是将长条的可挠性片状基板沿长条方向依序搬送至多个处理装置的各个，据以在该片状基板形成导电性图案，其具备：第1处理装置，依据第1设定条件一边将该片状基板往该长条方向搬送、一边于该片状基板表面选择性的或全部的形成既定被膜层；第2处理装置，依据第2设定条件一边将该片状基板往该长条方向搬送、一边对该片状基板表面的该被膜层照射对应该图案的光能，以在该被膜层形成对应该图案的改质部；第3处理装置，依据第3设定条件一边将该片状基板往该长条方向搬送、一边在该改质部与非改质部中的非改质部藉由湿式处理析出导电性材料而形成该图案；以及控制装置，在该第1～该第3处理装置的各个中施于该片状基板的实处理的状态中的至少1者，相对在该第1～该第3处理装置各个的目标的处理状态呈现处理误差的情形时，使该第1～该第3设定条件中、呈现该处理误差的该设定条件以外的其他该设定条件反应该处理误差变化。
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