[发明专利]大强度离子的离子源产生装置及产生方法

摘要

本发明涉及一种离子产生以及离子注入装置，尤其是涉及一种大强度离子的离子源产生装置及产生方法。包括外靶室、内靶室，离子引出管道以及绝缘法兰。目的在于针对现有的狭小空间内绝缘困难而提供一种新的基于绝缘方式的激光离子源装置，包括由板装金属材料制成的外靶室，内靶室通过支撑座硬连接安装在外靶室内，内、外靶室间设有气流连通通路，高压结构经由绝缘法兰安装在外靶室的外壁上，且高压接口中的金属线穿过外靶室的外壁与内靶室相连通。有益效果在于：实现了外靶室和其他周边设备的绝缘，增大了加工和装配的便利，同时保留了整体在外观上小巧结构。

主权项

1.一种大强度离子的离子源产生装置，其特征在于：包括由板装金属材料制成的外靶室，内靶室通过支撑座硬连接安装在所述外靶室内，所述内、外靶室相连以形成相同的真空度，高压结构经由绝缘法兰安装在外靶室的外壁上，且所述高压接口中的的金属线穿过外靶室的外壁与所述内靶室相连通；所述外靶室的侧面设有离子引出外管道，所述外部管道上安装有与加速器腔体相连接的绝缘法兰，所述外靶室的底面设有绝缘管道，所述绝缘管道的另一端经由转接管道连接真空泵，所述外靶室的顶面先后经由绝缘法兰和绝缘支持机构连接靶移动平台；所述内靶室的侧面设有离子引出内管道，所述离子引出内管道空套在所述离子引出外管道内；所述内靶室内设有调整用准直光学镜片，在内靶室内壁的对应位置上设有透光孔，所述外靶室的对应位置设有由玻璃密封的孔，以使激光由外靶室进入内靶室。