[发明专利]彩膜基板及其制造方法有效
申请号: | 201810481331.X | 申请日: | 2018-05-18 |
公开(公告)号: | CN108681140B | 公开(公告)日: | 2021-10-15 |
发明(设计)人: | 于晶;陈右儒;禹钢 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335 |
代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人: | 杨广宇 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种彩膜基板及其制造方法,属于显示技术领域。所述方法包括:提供一衬底基板;在所述衬底基板上形成黑矩阵;采用混合有酯类化合物的量子点材料,在形成有所述黑矩阵的衬底基板上形成量子点材料层;采用溶胶凝胶法,使所述量子点材料层中的酯类化合物发生反应,以形成掺杂有纳米颗粒的溶胶凝胶层;对所述溶胶凝胶层进行固化处理,以得到量子点彩膜层。本发明解决了相关技术中量子点彩膜层的制备方式的限制性较高的问题。本发明用于彩膜基板的制造。 | ||
搜索关键词: | 彩膜基板 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种彩膜基板的制造方法,其特征在于,所述方法包括:提供一衬底基板;在所述衬底基板上形成黑矩阵;采用混合有酯类化合物的量子点材料,在形成有所述黑矩阵的衬底基板上形成量子点材料层;采用溶胶凝胶法,使所述量子点材料层中的酯类化合物发生反应,以形成掺杂有纳米颗粒的溶胶凝胶层;对所述溶胶凝胶层进行固化处理,以得到量子点彩膜层。
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