[发明专利]大面积石墨烯制备设备在审
| 申请号： | 201810481370.X | 申请日： | 2018-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN110499496A | 公开（公告）日： | 2019-11-26 |
| 发明（设计）人： | 金基哲 | 申请（专利权）人： | 烯驰科技(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/26 | 分类号： | C23C16/26;C23C16/46;C23C16/455 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 200433 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 与本发明相关的大面积石墨烯制备设备包含如下部分：主机部；安装在上述主机部的上部，一侧与进气口相连，另一侧与真空单元相连的炉(chamber)；安装在上述炉(chamber)的上部的第1加热器；安装在上述炉的下部的第2加热器；以及可包裹住上述炉、上述第1加热器以及上述第2加热器，且与上述真空单元相连，使上述炉的周围形成真空的真空罩。 | ||
| 搜索关键词： | 加热器 真空单元 主机部 进气口 大面积石墨烯 制备设备 真空罩 | ||
【主权项】：
1.一种大面积石墨烯制备设备，其特征在于，所述设备是包含下述部分的大面积石墨烯制备设备：/n主机部；/n安装在上述主机部的上部，一侧可与进气口相连，另一侧可与真空单元相连的炉(chamber)；/n安装在上述炉(chamber)的上部的第1加热器；/n安装在上述炉(chamber)的下部的第2加热器；以及/n可包裹住上述炉、上述第1加热器以及上述第2加热器，且与上述真空单元相连，使上述炉的周围形成真空的真空罩。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于烯驰科技(上海)有限公司，未经烯驰科技(上海)有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810481370.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
