[发明专利]图像传感器结构以及图像传感器在审

专利信息
申请号: 201810481758.X 申请日: 2018-05-18
公开(公告)号: CN108598099A 公开(公告)日: 2018-09-28
发明(设计)人: 刘长振;令海阳;刘宪周;吴亚贞 申请(专利权)人: 上海华虹宏力半导体制造有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅
地址: 201203 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种图像传感器结构以及图像传感器,所述图像传感器结构包括基底和石墨烯膜层,所述基底上具有光路区,所述石墨烯膜层附着在所述光路区上。在本发明提供的图像传感器结构以及图像传感器中,在图像传感器结构的光路区上形成石墨烯膜层,由于石墨烯膜层具有优异的光学特性和电学特性,通过石墨烯膜层降低光路区的器件受到电磁波干扰的影响,从而提高图像传感器的性能。
搜索关键词: 图像传感器结构 石墨烯膜层 图像传感器 光路 基底 电磁波干扰 电学特性 光学特性 附着
【主权项】:
1.一种图像传感器结构,其特征在于,所述图像传感器包括:基底,所述基底上具有光路区;石墨烯膜层,所述石墨烯膜层附着在所述光路区上。
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