[发明专利]工艺腔室、生产设备以及工艺控制方法在审
| 申请号： | 201810482466.8 | 申请日： | 2018-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN110499498A | 公开（公告）日： | 2019-11-26 |
| 发明（设计）人： | 吴振;马静霞;王晓尉 | 申请（专利权）人： | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44;C23C16/52 |
| 代理公司： | 11477 北京尚伦律师事务所 | 代理人： | 白瑶君<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明是关于一种工艺腔室、生产设备以及工艺控制方法。该工艺腔室包括腔体与至少一个观察窗，所述工艺腔室还包括截止组件；所述截止组件用于使得所述至少一个观察窗与所述腔体内部阻隔或连通。该技术方案中，在工艺腔室采用LPCVD工艺进行膜层沉积时，截止组件可以阻隔观察窗与腔体内部环境，避免了化学物质对观察窗的污染，提高了观察窗的使用寿命；在工艺腔室完成LPCVD工艺之后，截止组件可以连通观察窗与腔体内部，便于用户通过观察窗观察工艺腔室的工艺进程，提高了用户体验。 | ||
| 搜索关键词： | 观察窗 工艺腔室 截止组件 腔体内部 连通 阻隔 工艺进程 工艺控制 化学物质 膜层沉积 生产设备 使用寿命 用户体验 腔体 观察 污染 | ||
【主权项】：
1.一种工艺腔室，包括腔体与至少一个观察窗，其特征在于，所述工艺腔室还包括截止组件；/n所述截止组件用于使得所述至少一个观察窗与所述腔体内部阻隔或连通。/n
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
