[发明专利]可调谐焦平面阵列器件及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201810488576.5 申请日: 2018-05-21
公开(公告)号: CN108646404B 公开(公告)日: 2020-07-03
发明(设计)人: 张卫;郑亮;陈琳;孙清清 申请(专利权)人: 复旦大学
主分类号: G02B26/08 分类号: G02B26/08;G03F7/00
代理公司: 上海正旦专利代理有限公司 31200 代理人: 陆飞;陆尤
地址: 200433 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明属于半导体器件技术领域,具体为一种可调谐焦平面阵列器件及其制备方法。本发明制备方法的步骤为:在衬底上制作焦平面阵列;将所述焦平面阵列从衬底上分离;形成半球形聚合物转移支撑衬底;将所述焦平面阵列转移至所述半球形聚合物转移支撑衬底上,并进行封装;以及将所述封装后的焦平面阵列粘贴到可变曲率镜面的上表面,通过在所述可变曲率镜面背面的中间位置施加作用力,使所述焦平面阵列可调谐。本发明能够使焦平面阵列器件的形变呈球形形变,从而提升光学系统性能的提升,排除其他不规则形变导致的性能损失。
搜索关键词: 调谐 平面 阵列 器件 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种可调谐焦平面阵列器件制备方法,其特征在于,包括以下步骤:在衬底上制作焦平面阵列;将所述焦平面阵列从衬底上分离;形成半球形聚合物转移支撑衬底;将所述焦平面阵列转移至所述半球形聚合物转移支撑衬底上,并进行封装;以及将所述封装后的焦平面阵列粘贴到可变曲率镜面的上表面,通过在所述可变曲率镜面背面的中间位置施加作用力,使所述焦平面阵列可调谐。
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