[发明专利]一种氯化钴溶液的深度萃取除杂方法

摘要

本发明公开了一种氯化钴溶液的深度净化除杂方法，其充分利用P204萃取剂的萃取除杂特性，将P507萃取产出的氯化钴溶液进行再萃取，杂质离子萃取进入P204有机相，钴离子则进入萃余液，最终产出的萃余液即为高品质的氯化钴溶液，该方法产生的试液均投入下一工序进行使用，无废水废料的产生，不会产生额外的废水、废料处理费用，节省了生产成本。采用本发明方法后，使用小通量萃取箱即可处理大量的氯化钴溶液，且可将氯化钴溶液中大部分的微量杂质元素一次性萃取除去，深度净化后氯化钴溶液中Co2+含量为120‑150g/L，主要杂质离子Cu2+＜0.0008g/L，Mn2+＜0.002g/L，Ca2+＜0.005g/L，为电积钴和钴氧化物，尤其是四氧化三钴的生产提供了品质优良的原料。

主权项

1.一种氯化钴溶液的深度萃取除杂方法，包括如下步骤：步骤一，P204的钠皂化：将P204萃取剂和溶剂油混匀组成有机相，与浓碱溶液充分反应，得到P204有机相钠皂；步骤二，P204有机相钠皂后的钴皂化：将P204有机相钠皂与15‑20g/L的氯化钴溶液以体积比1:1充分混合，得到P204有机相钴皂；步骤三，氯化钴溶液的萃取：将P204有机相钴皂与待深度除杂的氯化钴溶液充分混合，该氯化钴溶液中的杂质离子Cu2+、Mn2+、Ca2+与P204有机相钴皂上的Co2+进行交换，杂质离子负载在P204有机相上进入洗涤段，Co2+则进入水相，产出的萃余液即为除杂后的高品质氯化钴溶液；上述待深度除杂的氯化钴溶液为经P507萃取后的氯化钴溶液。